1、超聲波清洗

利用高頻超聲裝置，進(jìn)一步清洗去除催化劑單元體孔道、催化劑微孔堵塞物，超聲波清洗對裝置要求比較高，我公司采用專利裝置，除灰垢效果良好且不損傷催化劑基體。

2、化學(xué)清洗

前面所述干法、射流、鼓泡和超聲波清洗為物理機械清洗，清洗程度很有限，對黏附不牢的表層灰垢去除相對較好，深度除灰和去除有害的其它化學(xué)成分需采用化學(xué)清洗的方法。

3、去離子水清洗

使用去離子水進(jìn)一步?jīng)_洗，清除前工藝遺留下的粉塵、污垢及化學(xué)清洗劑，為下一步再生處理創(chuàng)造清潔的界面；

4、特殊工況下SCR催化劑清洗

實際生產(chǎn)中，發(fā)現(xiàn)有些批次催化劑堵孔十分嚴(yán)重，表現(xiàn)在單元體堵孔率高；堵塞物板結(jié)，堅硬牢固。

5、干法清洗

利用大功率的負(fù)壓吸塵器除去黏附尚且不牢的浮灰和孔道堵塞物；必要時再采用壓縮空氣進(jìn)一步去除催化劑單元體表層或孔道浮灰、堵塞物。

6、射流清洗

將催化劑移入專用射流工位，利用額定壓力的SCR脫硝催化劑專用射流清洗機進(jìn)行沖洗，除去黏附尚且不牢的浮灰和孔道堵塞物；沖洗壓力過大會損失催化劑基體，過小達(dá)不到除灰效果，沖洗壓力一般不大于0.5MPa。

7、鼓泡清洗

采用專用鼓泡清洗裝置，利用壓縮空氣進(jìn)行鼓泡，進(jìn)一步去除催化劑單元體表層或孔道浮灰、堵塞物。